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ASMLの中国売上は29%から20%へ——オランダの半導体装置クラスターは一社依存を抜けられるか
2026.08.21 更新 / PROVE通信編集部
監修:森英朗(グループ代表)
ASMLの中国売上は29%から20%へ——オランダの半導体装置クラスターは一社依存を抜けられるか

ASMLの中国売上は29%から20%へ——オランダの半導体装置クラスターは一社依存を抜けられるか

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2026年7月15日、ASML(オランダ)は2026年通期の売上高見通しを、この半年で2度目となる上方修正に踏み切りました。年初時点で340億〜390億ユーロだった見通しは、430億〜450億ユーロまで積み上がっています。一方で同社の中国向け装置(システム)売上の比率は、2025年第4四半期の36%から2026年第1四半期には19%へ、一四半期でほぼ半減しました。さらに6月には、米政府が「同社の最先端露光装置が中国に渡っているのではないか」という疑惑をぶつける一幕もありました。EUV露光装置で世界唯一の供給者であるASMLに支えられたオランダの半導体装置クラスターは、この一社への依存から抜け出せるのでしょうか。ASMLの決算資料、オランダ議会の答弁、米議会の法案審議記録、そしてアイントホーフェン地域の経済統計という一次資料を並べ直すと、依存の実態とそこから抜け出す動きの両方が見えてきます。

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「430億〜450億ユーロ」ASMLが半年で2度上げた2026年の目標

ASMLは2026年1月28日、2025年通期決算の発表と同時に2026年の売上高見通しを340億〜390億ユーロと公表しました。この見通しは、2026年4月15日の第1四半期決算で360億〜400億ユーロへ、7月15日の第2四半期決算で430億〜450億ユーロへと、2回続けて上方修正されています。押し上げているのはAI関連投資で、CEOのクリストフ・フーケ氏は7月の決算発表で、EUV(極端紫外線、波長13.5ナノメートルの光を使う露光技術)の年間売上が前年比45%超、メモリー半導体向け売上は75%超伸びる見通しだと説明しました。ASMLは2027年分の低NA(開口数)EUV装置の生産能力を、2026年の年間65台から30%積み増す計画も明らかにしています。

2026年8月時点、ASMLを取り巻く数字
430億〜450億ユーロ 2026年通期売上高見通し(7月15日公表)|19% 2026年第1四半期の中国向け装置売上比率(前四半期は36%)|22% ASMLがアイントホーフェン地域経済に占める付加価値の比率(2024年)

「36%から19%へ」中国向け装置売上が一四半期で半分になった内訳

ASMLの中国(台湾を除く)向け売上比率は、全社売上でみると2023年通期26%、2024年通期36%、2025年通期29%と推移しています。決算説明でよく引用される「2025年は33%」という数字は装置(システム)売上に占める比率で、全社売上に占める比率(29%)とは基準が異なります。システム売上だけで見ると、2025年第4四半期の36%から2026年第1四半期には19%まで落ちました。同じ四半期に韓国向けは22%から45%へ、台湾向けは13%から23%へ伸びており、中国の落ち込みを他地域の受注が埋める構図です。CFOのロジャー・ダッセン氏は決算説明会で、中国事業は通期でみればおおむね20%の水準に収まるとの見方を示し、四半期ごとの振れは受注認識のタイミングによるもので需要の急変ではないと説明しています。

時点中国(台湾除く)向け比率基準
2024年通期36%全社売上
2025年通期29%(システム売上のみでは33%)全社売上
2025年第4四半期36%システム売上
2026年第1四半期19%システム売上
2026年通期(見通し)約20%全社売上

受注残388億ユーロ——ASMLが公表をやめた数字

ASMLは2026年1月28日発表の2025年通期決算で、2025年末時点の受注残高(バックログ)が388億ユーロ、第4四半期の新規受注高(ネットブッキング)が132億ユーロ(うちEUV分74億ユーロ)だったと公表しました。ところが2026年4月15日の第1四半期決算以降、決算プレスリリースの主要指標表からこの2項目が消えています。3回分の決算資料を直接比較すると、1月28日の表には載っていた数字が、4月15日・7月15日の表からは外れていることが確認できます。会社側は「大口受注は発生タイミングが不規則で、四半期ごとの数字が実態を歪めて伝わる」と説明しており、投資家や取引先は今後、業績見通しと出荷実績、経営陣のコメントから需要を読み取るしかありません。ASMLは2027年分の低NA EUV装置についてほぼ受注で埋まっており、2028年分も相当数の受注が入っていると説明しています。

6月19日、ワシントンが投げた「EUVが中国にある」という疑惑

2026年6月19日、米ブルームバーグは、米商務長官ハワード・ラトニック氏が同年4月の会談でASML幹部に「同社の最先端露光装置(EUV)が中国に渡っている可能性がある」と懸念を伝えていたと報じました。EUV機は台湾積体電路製造(TSMC)などが最先端ロジック半導体を作る際に使う装置で、第一次トランプ政権期から対中輸出が認められていません。ASMLは「EUV機を中国に出荷したことは一度もない」と否定し、世界で稼働する314台のEUV機の位置をすべて遠隔で追跡できると説明する文書をワシントンで配布しました。米側は6月22日以降、装置本体ではなく「EUV関連の部品と搬送機器」の出荷を示す証拠があると主張を修正していますが、その証拠は報道機関にもASMLにも開示されていません。オランダ外国貿易大臣のシェルダマ氏も、7月10日の議会答弁で「摘発が必要な事実は現時点で確認されていない」と述べています。

この疑惑は2026年8月時点で米商務省による立証も撤回もされていない未確定情報です。本稿では「両者が対立している」という事実関係のみを扱い、疑惑の真偽そのものには立ち入りません。

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2023年9月1日に始まった、オランダの国別輸出許可制度

オランダが半導体製造装置に対する国別の輸出許可制度を始めたのは2023年9月1日です。対象はEUV露光装置と、DUV(深紫外線、EUVより波長が長い露光技術)の中でも先端世代の液浸型装置でした。この制度はその後、少なくとも3回対象を広げています。

  • 2024年9月7日:それまで米国の輸出規制だけで管理されていたNXT:1970i・1980iの2機種をオランダの許可対象に追加。米国側が単独で規制していた機種の許可権限を、オランダ側が取り戻す形になった
  • 2025年4月1日:露光装置以外の計測・検査装置の一部にも許可対象を拡大
  • 2025年11月20日:EUが委任規則(2025年9月8日採択、11月15日発効)でデュアルユース規則の付属書Iを更新したことを受け、オランダが先行して国内規制していた項目の一部をEUレベルの規制に吸収。オランダの国内命令は官報告示で「EU規制でまだカバーされていない品目だけ」を対象とする形に改められた(適用はEU規則発効日の11月15日に遡及)

オランダ政府は一貫して「これは輸出禁止ではない」と説明しています。2025年に公表された2024年分の年次報告によると、デュアルユース品目の輸出許可は855件・総額約343億ユーロが発行され、不許可はわずか13件・約1,403万ユーロにとどまりました。輸出先を金額別にみると、中国は約2.5億ユーロで6位。1位の韓国(約45.1億ユーロ)や2位の米国(約43.4億ユーロ)、3位の台湾(約23億ユーロ)と比べると規模は小さく、対中輸出そのものを禁じているわけではないものの、実際に流れている金額の主戦場は別の地域にあることが分かります。

米議会のMATCH法案が握る、150日という時計

オランダの許可制度に、米国議会からさらに強い圧力がかかっています。2026年4月2日に米下院へ提出された「MATCH法(同盟国のハードウェア技術管理を一致させる法案、H.R.8170)」は、成立後150日以内に、オランダや日本が米国と同水準の輸出規制を自国の法律に落とし込むことを義務づける内容です。対象にはDUV液浸型装置の対中輸出だけでなく、中国国内に設置済みの装置への保守・サービス提供も含まれます。同法案は4月22日、下院外交委員会で賛成36・反対8の採決を経て修正のうえ本会議に送られました。上院版(S.4281)も4月13日に提出され、上院銀行委員会に付託されたままです。米下院は7月22日、賛成216・反対212で2027会計年度国防権限法案(H.R.8800)を通過させましたが、この可決版にMATCH法の内容は含まれていません。上院側の同年度国防権限法案(S.4784)も、7月14日に審議入りの手続き(討議終結)採決を賛成50・反対46で否決されており、2026年8月時点で上下両院ともMATCH法を可決していません。

MATCH法は2026年8月時点でまだ成立していません。今後の両院協議で条文がどう扱われるかは交渉次第で、成立・廃案いずれの可能性も残っています。

日本が2023年7月に加わった、3か国の輸出管理の歩調

半導体製造装置の輸出管理で足並みを揃えているのは米国とオランダだけではありません。日本・米国・オランダの3か国は2023年1月27日、先端半導体製造装置の対中輸出制限で合意したと報じられ、日本政府は同年3月31日に外国為替及び外国貿易法(外為法)の省令改正方針を発表、23品目を輸出管理の規制対象に追加しました。この規制は同年7月23日に施行されています。対象にはEUV関連製品の製造装置や、記憶素子を立体的に積み上げるエッチング装置が含まれ、輸出には経済産業大臣の事前許可が必要になりました。当時の西村康稔経済産業相は「特定の国を念頭に置くものではない」と説明していますが、対象外の国・地域への輸出は事実上難しくなっています。オランダが装置本体を、日本が装置と材料の両方を規制対象に含めていることで、代替調達先を探す余地は狭められています。

EUV用の鏡を独占するのは、オランダではなくドイツの町

ASMLの装置を「オランダ製」と一括りにすると、依存関係の全体像を見誤ります。EUV露光装置の中核部品である投影光学系(複数の鏡を組み合わせてEUV光をウェハーに結像させる部分)は、ドイツ・オーバーコッヘンのカール・ツァイスSMTが独占的に製造しています。EUV光はほぼすべての物質に吸収されてしまうため、レンズではなく多層膜コーティングを施した鏡で光を反射させる構造になっており、この技術を量産できる企業は世界にツァイス1社しかありません。ASMLは自社の米SEC提出資料(Form 20-F)で「ツァイスが生産水準を維持・拡大できなければ受注に応じられなくなり、関係が絶たれれば事実上事業を継続できなくなる」という趣旨のリスクを長年開示しています。同社は2016年11月、ツァイスSMTの株式24.9%を現金10億ユーロで取得すると発表し、2017年6月に取得を完了しました。光源側にも同様の一社依存があり、EUV光を発生させる際に使うCO2レーザーはドイツのトルンプ製、光源モジュール自体は2013年5月にASMLが買収した米カリフォルニア州の子会社サイマーが手がけています。

22%——アイントホーフェン地域経済のなかのASMLという比重

ASMLの本社があるオランダ南東ブラバント州、通称ブレインポート・アイントホーフェン地域の経済振興組織Brainport Developmentが2025年10月にまとめた報告書によると、同地域の2024年の付加価値は総額538億ユーロでした。このうちハイテク製造業(HTSM)が247億ユーロ(46%)を占め、さらにその半分近くをASML単独が生んでいます。ASMLの付加価値は120億ユーロで、地域経済全体の22%、HTSM分野の48%に達します。報告書自身、この比重を1970年代のフィリップスと比較しています。当時のフィリップスは地域の雇用のほぼ半分を担っていました。ASMLの比重はそれより低いものの、一社が地域経済の4分の1近くを占める状態であることに変わりはありません。

同じ報告書は、地域内でASMLの一次取引先となる主要13社も特定しています。この13社が生む付加価値は22億ユーロで、平均して自社売上の4割をASML向けの取引に依存しています。一方、同じ13社がASML以外の顧客から得ている付加価値は34億ユーロあり、完全にASML専属というわけではありません。報告書の執筆に協力した企業名からも、この裾野の構成が見えます。例えば精密メカトロニクスのVDL ETG、NTS Group、KMWE、Sioux Technologies、電子機器のNeways Electronics、開発製造受託のProdrive Technologiesなど、いずれもASML本社から車で1時間圏内に集積する企業群です。ASML以外の大手6社(DAF・NXP・フィリップス・Signify・VDL本体・Thermo Fisher)も地域経済の17%(93億ユーロ)を占めており、地域全体としては一社経済ではありませんが、半導体装置という一つの層に絞ると依存の構図がはっきり浮かび上がります。

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2万人、6千人——「プロジェクト・ベートーベン」が描く2032年の雇用地図

オランダ政府とブレインポート地域が官民で進める投資枠組み「プロジェクト・ベートーベン」は、人材・インフラ・エネルギー・住宅への投資として25億ユーロを投じる計画です。この枠組みが前提とする成長シナリオでは、ASMLの地域内従業員は2030〜2032年にかけて2万人増えます。増員はASML単独では終わりません。同じ試算では裾野企業側でも6,000人分の雇用が生まれ、そのうち5,500人分が先述の13社に結びつき、13社の従業員数は合計で約1万7千人に達する見通しです。地域全体のハイテク製造業の雇用は13万9千人(地域全体の雇用の約25%)まで拡大し、地域の総雇用も55万1千人規模に育つと見込まれています。2024年時点のハイテク製造業の雇用は8万6,300人(地域全体の19%)だったので、計画が実現すれば比重そのものも一段と重くなります。

マスクブランクスとレジストは、日本企業が握っている

露光装置そのものはオランダ・ドイツ・米国の企業に集中していますが、装置が使う材料の多くは日本企業が握っています。EUV露光で回路パターンの原版となる基板材料「マスクブランクス」は、HOYAが自社の統合報告書で「長年にわたって非常に高い市場シェアを保持している」と説明しており、証券会社モーニングスターはEUV用マスクブランクスに限るとシェア75%超と推定しています。感光材であるフォトレジストの先端品では、信越化学工業・JSR・東京応化工業が主要サプライヤーです。JSRは2023年6月26日、国内の半導体材料業界再編を目的に、政府系ファンドの産業革新投資機構(JIC)から総額約9,040億円(純有利子負債を含む買収総額は約1兆円規模)でのTOBを受け入れ、2024年6月に上場廃止となりました。マスクの防塵膜「ペリクル」では、三井化学がASMLからライセンスを受け、2021年に山口県の岩国大竹工場で世界に先駆けてEUV用ペリクルの商業生産を始めています。マスクの欠陥を検査する装置では、レーザーテックが自社サイトで「世界で唯一の製品」と説明するアクチニック(露光と同じ波長の光を使う)検査技術を持ち、代わりの装置は存在しません。

Brainport自身が挙げた「中国が来る」という一節

Brainport Developmentの2025年10月の報告書は、地域の将来に影響する外部環境の変化を11項目に整理しています。最後に置かれた項目の見出しは「中国が来る」です。報告書は「中国はおそらくそう遠くないうちに、複雑な機械やシステムも作れるようになる。5年か10年か、時期はまだはっきりしない」と述べ、その競争に地域が備えられているかを自ら問いかけています。この地域が向き合う不確実性は、少なくとも二方向に分かれます。一つは、米議会のMATCH法が最終的に成立し、オランダの「ケースバイケースの審査」という原則そのものが上書きされる方向です。もう一つは、オランダの現行方針が維持され、対中売上2割前後というASMLの想定と、ブレインポート地域がフォトニクス・エネルギー・防衛といった分野へ広げる自前の多角化戦略が、並行して進む方向です。どちらに転んでも、地域内に集積する13社の裾野企業リストと、マスクブランクス・レジスト・ペリクルを担う日本企業群は、単なるリスク監視の対象ではなく、精密機械・光学・材料に強みを持つ企業にとって具体的な商談先の地図になります。海外調達や協業先の選定を検討する立場であれば、この地図を個別に当たる価値があります。

確認しておきたい点 自社の製品・部材がASMLおよびその周辺サプライチェーン(ツァイスSMT・レーザーテック・HOYA・信越化学等)との取引に含まれているか オランダ・日本・米国いずれかの輸出許可対象品目リストに自社製品が該当するか(該非判定) 中国拠点の取引先が輸出管理の対象事業者に指定されていないか MATCH法など米国の法制化の動きが自社の保守・サービス契約に影響しないか

よくある質問

Q. ASMLの中国向け売上は、結局増えているのか減っているのか?

全社売上では2023年26%→2024年36%→2025年29%で、2026年通期は約20%の見通しです。四半期のシステム売上比率は振れが大きく、2025年第4四半期の36%から2026年第1四半期には19%まで下がりました。ASMLは受注認識のタイミングによる振れで、需要の急変ではないとしています。

Q. オランダは半導体装置の対中輸出を禁止したのですか?

禁止ではありません。2023年9月開始の国別輸出許可制度は「ケースバイケースの審査」が原則で、2024年分でも許可855件のうち不許可は13件でした。中国向けの実現輸出額は約2.5億ユーロで、韓国・米国向けに比べると小規模です。

Q. ASMLへの依存はオランダ国内だけの話ですか?

いいえ。EUV露光装置の投影光学系はドイツのカール・ツァイスSMTが独占製造し、光源用レーザーも同じドイツのトルンプ製です。マスクブランクスのHOYA、フォトレジストの信越化学・JSRなど日本企業への依存も大きく、依存関係はオランダ一国では完結していません。

Q. 日本企業にとって、このクラスターはどう関係するのですか?

露光装置本体への新規参入余地はほぼありませんが、マスクブランクス・フォトレジスト・マスク検査では日本企業が高いシェアを持ちます。米議会のMATCH法が成立し許可制度が上書きされる場合も、周辺工程を担う日本企業への影響と商機を点検する価値があります。

主な出典

ASML「Q2 2026 financial results」(2026年7月15日)/ASML「Q1 2026 financial results」(2026年4月15日)/ASML「Q4 2025 financial results」(2026年1月28日)/ASML Form 20-F(米SEC提出資料、Zeiss依存リスク開示)/ASML・カールツァイスSMT共同発表(2016年11月3日)/ASML「Completes Acquisition of Cymer」(2013年5月30日)/Bloomberg「US Tells ASML It’s Concerned China May Have Top Chip Tool」(2026年6月19日)/techtimes.com(2026年6月22日)/オランダ議会答弁(Sjoerdsma外国貿易大臣、2026年5月12日・2026年7月10日、tkconv/OpenTK掲載)/オランダ政府“Dutch Export Policy on Strategic Goods in 2024”年次報告(2025年公表)/government.nl発表(2024年9月6日・2025年1月15日)/米congress.gov「H.R.8170」「S.4281」法案テキスト/米下院clerk.house.gov Roll Call 278(H.R.8800、2026年7月22日)/米上院senate.gov Roll Call Vote 195(S.4784、2026年7月14日)/日本経済新聞「先端半導体の輸出規制、7月23日施行」(2023年5月23日)/ロイター「日米蘭、半導体の対中輸出規制で合意」(2023年1月28日)/Brainport Development「Verkenning diversificatiestrategie Brainport HTSM-ecosysteem」(2025年10月)/HOYA統合報告書/レーザーテック公式サイトIR情報/JSR・産業革新投資機構プレスリリース(2023年6月26日)/三井化学プレスリリース(2024年5月28日)。数値・法制度の状況はいずれも本文に明記した各時点のものです。

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